Bena OpticsOpticsのSiC球面ミラー

光学システムでは、非球面光学要素は、新しい収差を導入することなく自由設計変数の数を増やすことができ、それによってイメージング品質を高め、システムのサイズと重量を減らします。 その結果、非球面素子は、宇宙および地上の天文望遠鏡、深宇宙探査および地球観測光学、深紫外線 (DUV) などのハイエンド光電子機器で広く使用されています。極端な紫外線 (EUV) リソグラフィ光学、および高性能カメラ。 天体望遠鏡システムの2つの重要な性能指標は、角度分解能 (AR) と集光能力 (LCC) であり、どちらもシステムの開口部と密接に関連しています。 角度分解能は望遠鏡の直径に反比例しますが、集光能力は直径の2乗に比例します。 アパーチャが大きいほど、角度分解能と集光能力が高くなります。 したがって、絞りを増やすことは望遠鏡の性能を高めるために重要であり、これは天文学と地球観測の分野における大型望遠鏡の高い需要を説明しています。

ただし、最新の地上望遠鏡や宇宙カメラでのプライマリミラーのサイズの増加は、ミラー材料と完全空間周波数 (FSF) 形状エラー制御に厳しい要件を課しています。 したがって、ミラー材料と大型非球面ミラーの正確で効率的な製造にはブレークスルーが緊急に必要です。 ULEのような他のミラー材料と比較して®とZerodur®、炭化ケイ素 (SiC) は、より高い比剛性と寸法安定性を提供し、過酷な環境での使用に適しています。 さらに、反応結合炭化ケイ素 (RB-SiC) プロセスは、半閉じたバック構造を生成し、その比剛性と寸法安定性をさらに高めることができます。 その結果、優れた機械的および熱的特性を備えた大口径のSiCミラーは、世界の望遠鏡分野ですぐに新しいお気に入りになりました。

Bena Opticsは、SiCミラーの処理において国際的にリードする機能を備えています。 現在、彼らは最大直径1.2メートルのミラーを製造することができます。 大型リング研磨機、CCOS (コンピューター制御光学表面化) 補正、およびIBF (イオンビーム図) やMRF (磁気学仕上げ) などの究極の仕上げ技術を利用して、bena Opticsは、 λ/180未満の高いRMS (Root Mean Square) 表面精度と超滑らかな鏡面を実現できます。